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産業技術史講座 産業技術史資料情報センター
1/13（土）

「時代を先取りしてきたフォト・リソグラフィー技術の歴史」

前・産業技術史資料情報センター主任調査員／高橋　一雄
　私たちの日常生活に深く浸透している電子機器、その中枢にあるのがトランジスタやICなどの半導体素子です。この半導体素子は、家電製品やコンピュータ以外でも、医療用機器や産業用機器など多くの分野で利用されています。しかし、その歴史は比較的浅く、ここ数十年の間に急速に発展した分野です。この半導体素子の製造に使用される装置を、半導体製造装置と呼んでいます。そのなかで、時代の要求に応じた微細化を牽引してきたのが、半導体露光装置でした。
　ミクロン（マイクロメートル）からナノ（ナノメートル）の時代まで、微細化技術としての半導体露光装置、特に世界を凌駕したステッパーについて、半導体素子の微細化とのかかわりをふまえたうえで、フォト・リソグラフィー技術の全体像について、これに関わった数多くの半導体技術者たちの業績と微細化技術を推進してきた企業の動向などを交えて、時代と共に歩んだその足跡を辿ってみます。
内　容；
　１）半導体産業の夜明け（1950年代）からULSI時代（1990年代）の到来まで、半導体産業に貢献した半導体技術者たち
　２）ミクロン（マイクロメートル）からナノ（ナノメートル）の時代まで、微細化技術を牽引してきたフォト・リソグラフィー技術とその装置について
　注）千分の１ミリメートルが、１マイクロメートルです。
　　　１マイクロメートルの千分の１が、１ナノメートルです。
時間 午前10時〜午後18時30分（入場は18時まで）　※土日は休館です
会場 東京都中央区日本橋室町2-1-1　三井本館5階　産業技術史資料情報センター展示ギャラリー
対象 どなたでも
費用 無料
申込方法 申し込みは不要です